综述或非传感器论文 2010 非传感器论文

Fabrication of cell pattern on poly(dimethylsiloxane) by vacuum ultraviolet lithography.

Colloids and surfaces. B, Biointerfaces Gan J, Chen H, Zhou F, Huang H, Zheng J, Song W, Yuan L, Wu Z
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组成图示

Fabrication of cell pattern on poly(d... 传感器构成示意图

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传感器类型

综述或非传感器论文

检测对象

L929 细胞(L929 cells,RPMI 1640 培养液);纤维蛋白原(Fibrinogen, Fg-FITC,PBS/培养液)

检测原理

该工作并非传统分析物传感,而是利用表面化学异质性实现细胞空间图案化。PDMS 表面先共价接枝 APEG,形成抗污 PEG 层;以铜网为掩模进行 172 nm VUV 曝光后,曝光区 PEG 被高能光子烧蚀,露出 PDMS,未曝光区仍保留 PEG。由于 PDMS 易发生非特异性蛋白吸附,而 PEG 可排斥蛋白和细胞,培养液中的细胞外基质蛋白会优先吸附在曝光区,从而引导 L929 细胞选择性粘附、铺展和生长;未曝光区因蛋白吸附少而几乎无细胞。Fg-FITC 的荧光强度与吸附蛋白量成正比,共聚焦成像可验证蛋白和细胞的空间分布。若用于细胞基传感,该图案化表面可作为细胞定位和信号空间编码平台。

检测灵敏度

效应效果

在 50.2 μm×50.2 μm 曝光区上,L929 细胞选择性粘附于 PDMS-PEG 图案表面,几乎全部细胞位于曝光区;含 3–6 个细胞的域约占 88%,台盼蓝染色显示细胞活力为 97.0%,而图案化 PDMS 对照表面细胞活力为 95.4%。AFM 显示曝光区烧蚀深度约 145 nm,曝光区宽约 50.2 μm,未曝光条纹宽约 26.7 μm。Fg-FITC(1.0 mg/mL,25 ℃,3 h)共聚焦成像显示曝光区蛋白吸附明显高于 PEG 保留区,与细胞分布一致。细胞图案可维持 12 天,换液每 3 天一次。与需预吸附明胶等粘附分子的方法相比,该方法无需额外细胞粘附分子,图案更均匀,可用于单细胞限制、异型细胞共培养及细胞基器件。

传感器的构成

  • 基底:PDMS(Sylgard 184)弹性体,提供柔性、透明、低自荧光基底。
  • PEG 修饰层:APEG(烯丙基聚乙二醇,Mn=560)经氢化硅烷化反应接枝于 PDMS,形成抗蛋白/细胞粘附层。
  • 光刻掩模:铜网(TEM 铜网)作为光掩模,定义 172 nm VUV 曝光图形。
  • 曝光粘附区:VUV(Xe2 准分子,172 nm)烧蚀 PEG 后露出 PDMS,促进非特异性蛋白吸附和 L929 细胞粘附。
  • 未曝光抗粘附区:保留 APEG/PEG 层,抑制纤维蛋白原和细胞非特异性附着。
  • 细胞对象:L929 细胞,作为模型细胞选择性粘附于曝光区。
  • 蛋白探针:Fg-FITC(纤维蛋白原-异硫氰酸荧光素),用于验证蛋白吸附空间分布。
  • 读出方式:倒置光学显微镜/CMOS 相机与激光扫描共聚焦显微镜,观察细胞和蛋白分布。

中文摘要

基底上的细胞图案化在基础生物学、基于细胞的生物传感器和组织工程研究中具有重要作用。本文报道了一种在聚二甲基硅氧烷(PDMS)基底上利用真空紫外(VUV)光刻制备细胞图案的方法。首先通过氢化硅烷化反应将烯丙基聚乙二醇(APEG)接枝到 PDMS 表面,形成抗蛋白和细胞非特异性粘附的 PEG 修饰层;随后以铜网作为光掩模,采用 172 nm Xe2 准分子 VUV 光源对 PDMS-PEG 表面进行曝光。曝光区域中的 PEG 层被烧蚀,露出 PDMS,可促进 L929 细胞粘附与生长;未曝光区域保留 PEG,因 PEG 的抗污和排斥作用而抑制细胞附着。因此,在细胞培养前无需预吸附细胞粘附分子,即可在 PDMS 上获得与光刻图形一致的细胞图案。该方法为细胞基器件、细胞生物学研究和组织工程提供了简便的表面图案化策略。

英文摘要

Cell patterning on substrates has played a significant role in the study of basic biology, cell-based biosensor and tissue engineering. In this report, a cell pattern was prepared on poly(dimethylsiloxane) (PDMS) substrate by vacuum ultraviolet (VUV) lithography. After immobilizing allyl-polyethylene glycol (APEG) onto PDMS, a chemical heterogeneous patterned surface was fabricated by VUV (Xe(2) excimer: 172nm) lithography with copper mesh as a photomask. The UV exposed domains can promote L929 cell adhesion and growth. However, non-exposed regions resist cell attachment because of the repelling property of PEG. Therefore, cell pattern could be achieved without pre-adsorption of cell adhesive species before cell culture.

关键词

细胞图案化聚二甲基硅氧烷真空紫外光刻聚乙二醇L929细胞蛋白吸附