Alkali-resistant low-temperature atomic-layer-deposited oxides for optical fiber sensor overlays.

本文研究低温（100 °C）原子层沉积（ALD）制备的氧化铪（HfOx，y/x≈2.70）、氧化钽（TaOx，y/x≈2.75）和氧化锆（ZrOx，y/x≈2.07）作为抗碱光纤传感器覆盖层的性能。分别采用四乙基甲基氨基铪、五氯化钽和四乙基甲基氨基锆与去离子水，在平面 Si(100) 和玻璃衬底上沉积。ALD 每循环生长量（GPC）...