Deposition of a SiO

在铁微颗粒表面沉积保护性二氧化硅（SiO2）涂层，可改善其化学稳定性并保留磁性能，因此受到广泛关注。正硅酸乙酯（TEOS）水解是溶液中沉积 SiO2 的关键方法，但该方法对壳层厚度和化学组成的调控能力尚未被充分研究。本文考察了水解反应时间和反应体系酸度两个因素对 SiO2 壳层的影响。结果表明，延长水解反应时间可使 SiO2 壳层厚...