Silanization of Plasma-Activated Hexamethyldisiloxane-Based Plasma Polymers for Substrate-Independent Deposition of Coatings with Controlled Surface Chemistry.

等离子体聚合因操作简便且可修饰几乎任何基底而成为表面改性的重要技术，但其沉积膜化学结构多样，难以精确控制功能基团。本研究提出一种基于等离子体的选择性功能涂层制备方法：首先在中压介质阻挡放电（DBD）中以六甲基二硅氧烷（HMDSO）为单体沉积类聚二甲基硅氧烷（PDMS）薄膜；随后用空气等离子体活化该膜，在表面引入硅醇基团；最后利用硅醇...